在我國的發展過程中，半導體行業是新出現并快速進步的一個生產行業，比如研發集成電路、二極管、晶體管等，也常用于各種電子設備和系統。在半導體行業的生產過程中，由于酸洗作業和濕法刻蝕工序等使用氫氟酸、氟化銨等物料，會產生大量含氟廢水。

這些含氟廢水因含有各種有害物質，不僅會造成環境污染、生態破壞，還會對動植物以及人體產生不良影響，只有將廢水處理進行必要的完善，才能使我國半導體行業的生產競爭能力更強。因而加強半導體行業含氟廢水的處理，是企業亟需解決的環保難題。現有技術常采用加鈣沉淀，但加鈣一般只能將水中的氟離子去除到10-20mg/l，并且存在加藥量大、污泥產量高、水中殘留的鈣離子結垢等問題。

為滿足企業對含氟廢水處理達標、高效、便捷、性價比高的需求，自主研發出深度除氟劑，無論是在運行成本、運行效率、安全性和避免產生二次污染等方面，都有著顯著的應用優勢。